Implantation Ionique
L'implantation ionique est une technique utilisée dans le semi-conducteur pour modifier localement la composition et les propriétés physiques d'un substrat, notamment lors de l'introduction de dopants tels le bore, phosphore, arsenic...
Les électrodes, écrans de protection en graphite de ces machines sont soumis à une forte érosion à cause du bombardement ionique.
- Le graphite ultra pur de Mersen à grain fin et forte densité résiste très bien à l'érosion.
- Mersen a en outre développé une imprégnation particulière dit "VCI", pour améliorer encore la résistance de ces pièces, tout en réduisant l'émission de particules.